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dc.contributor.authorKhekhouche, Samia-
dc.contributor.authorMessadia, Mayada-
dc.date.accessioned2022-03-22T14:26:16Z-
dc.date.available2022-03-22T14:26:16Z-
dc.date.issued2020-
dc.identifier.urihttp//localhost:8080/jspui/handle/123456789/2307-
dc.description.abstractLes couches minces Ni75 Fe25 ont été élaborées par la méthode physique (évaporation sous vide par effet Joule). Les couches minces de Ni75 Fe25 ont été déposées sur des substrats de silicium et d’alumine avec des épaisseurs varient entre 45 et 250 nm. Les propriétés structurales et magnétiques des films ont été étudiées en fonction de type de substrat et de l’épaisseurs. Les spectres de diffraction des rayons X en mode rasante (GIXRD) montrent une orientation préférentielle dans la direction <111> pour les films de faible épaisseur (45nm). Lorsque l’épaisseur augmente, une structure polycristalline a été observée. Le paramètre de maille diminue et la taille des grains augmente lorsque l’épaisseur augmente. Les courbes d’hystérésis montrent que le champ coercitif, Hc, diminue avec l’augmentation de l’épaisseur indépendamment du type de substrat utilisé. Lorsque l’épaisseur augmente, les films Ni75Fe25 déposées sur Si et Al 2O3 présentent une faible valeur de la coercivité et une grande valeur du moment magnétique.en_US
dc.description.sponsorshipAmel KAIBIen_US
dc.language.isofren_US
dc.publisherUniversite laarbi tebessi tebessaen_US
dc.subjectCouches minces Ni75Fe25, Évaporation sous vide, GIXRD, VSM, Propriétés structurales, Propriétés magnétiques.en_US
dc.titlePropriétés structurales et magnétiques des couches minces nanocristallines Ni75Fe25 déposées sur des substrats du Silicium et Al2O3en_US
dc.typeThesisen_US
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