Abstract:
Les couches minces Ni75 Fe25 ont été élaborées par la méthode physique (évaporation sous vide
par effet Joule). Les couches minces de Ni75 Fe25 ont été déposées sur des substrats de silicium
et d’alumine avec des épaisseurs varient entre 45 et 250 nm. Les propriétés structurales et
magnétiques des films ont été étudiées en fonction de type de substrat et de l’épaisseurs. Les
spectres de diffraction des rayons X en mode rasante (GIXRD) montrent une orientation
préférentielle dans la direction <111> pour les films de faible épaisseur (45nm). Lorsque
l’épaisseur augmente, une structure polycristalline a été observée. Le paramètre de maille
diminue et la taille des grains augmente lorsque l’épaisseur augmente. Les courbes d’hystérésis
montrent que le champ coercitif, Hc, diminue avec l’augmentation de l’épaisseur
indépendamment du type de substrat utilisé. Lorsque l’épaisseur augmente, les films Ni75Fe25
déposées sur Si et Al 2O3 présentent une faible valeur de la coercivité et une grande valeur du
moment magnétique.
