Contribution à l’étude des propriétés microstructurales des couches minces Ni75Fe25 déposées sur des substrats silicium et verre.

Abstract

Nous avons étudié l'effet de l'épaisseur et les substrats sur les propriétés structurales et microstructurales des films Ni75Fe25 (Permalloy: Py), qui a ont été élaborés par la technique d'évaporation sous vide. Les couches minces Ni75Fe25 ont été déposées sur différents substrats (verre et silicium (100)). Les épaisseurs des couches minces sont comprises entre 45 et 250 nm. Nous avons utilisé la technique de diffraction des rayons X DRX pour étudier les propriétés structurales des films Ni75Fe25. Les analyses des spectres de diffraction X montrent pour les deux types deux substrats, une orientation préférentielle dans la direction <111> pour les films de faible épaisseur (45 nm). Alors que les couches minces de plus grandes épaisseurs (127 nm et 250 nm) exhibent une orientation polycristalline. La taille moyenne des grains augmente et le paramètre de maille diminue avec l'augmentation de l’épaisseur. Les films minces sont soumis à une contrainte de compression. Les couches minces de Ni75Fe25 ont été également analysé par microscopie électronique à balayage MEB et microscopie à force atomique AFM pour étudier morphologie, la topographie et la rugosité de la surface.